真空炉の排気システムの基礎知識
真空炉システムでは、真空チャンバー内の大気圧を排気し、必要な真空度を達成するために様々な種類のポンプが使用されています。真空炉のポンプシステムには、通常、粗引きポンプと真空ブースターポンプの2つのサブシステムが含まれます。拡散ポンプを追加すると、2段式システム単独で達成できる圧力より低いシステム圧力になります。拡散ポンプは単独で運転することはできず、拡散ポンプの内圧を下げるためにアイドルモード時に保持ポンプを同時に運転する必要があります。拡散ポンプの運転中は、ホールディングポンプへのバルブは隔離され、ラフティングポンプとブースターポンプは拡散ポンプのバックシステムとして機能します。拡散ポンプは、真空レベルを大気圧から8.0×10-6 Torrであるのに対し、4.5×10-2 2段式でTorr（清潔で乾燥した空の炉の中で）。
拡散ポンプの仕組みは？
拡散ポンプが正常に機能するためには、メインバルブとフォアラインバルブを開き、炉内を高真空で運転できるようにする必要があります。ポンプの底にある流体は沸騰するまで加熱され、ジェットアセンブリの中心から押し上げられます。超音速のオイルミスト分子がジェットノズルから下向きに噴射され、軽いガス分子をポンプの底に押し流す。ガス分子はエジェクターノズルに集められ、ポンプシステムによってポンプから排出される。オイルは冷たい側壁に触れると液状に戻り、ポンプの底に集まって再加熱される。例えるなら、コーヒーのパーコレーターのようなものである。
ディフュージョンポンプは必要ですか？
拡散ポンプが必要かどうかは、お客様のプロセス要件によります。航空宇宙や原子力を含む多くの産業では、標準的な操作手順で高真空操作が義務付けられています。ろう付けのような特定のプロセスでは、より清浄な部品を製造するためにシステム圧を下げる必要があります。同様に、高級合金を処理する場合、拡散ポンプを使用すると、部品がきれいで明るく仕上がります。一方、ほとんどの焼入れ用途では、拡散ポンプは必要ありません。
拡散ポンプの詳細については、以下の参考資料をご覧ください。
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