分子级的精度。可重复的热处理工艺过程。

真空铝钎焊（VAB）

所有的真空铝钎焊炉的工作区都环绕着具有独立控制的加热元件，以最大限度地减少节拍时间，并精确、均匀的为工件加热。无接头的加热元件设计消除了电阻的积累和加热器的热点。

固溶氮化 (SolNit®)

固溶氮化是一种类似于表面渗碳淬火的热化学热处理工艺，但它使用氮气而不是碳作为反应介质。这种工艺使用具有高压气淬能力的真空炉对不锈钢进行氮化处理，使低等级不锈钢得到硬化，用于从手术器械到家用电器的各种用途。

乙炔真空渗碳(AvaC®)

我们专有的AvaC®真空渗碳工艺使用乙炔，基本消除了使用丙烷而产生的排放和积碳问题，同时大大提高了盲孔或通孔渗碳能力。从而使具有复杂几何形状和高装载密度的工件也有非常高的是渗碳均匀性。

铝离子气相沉积 (IVD)

离子气相沉积（IVD）是一种将纯铝涂层应用于部件的而进行腐蚀保护的工艺。为了防止氧气和水蒸气的污染，零件的镀铝工作是在真空下进行的。

排胶和烧结

真空排胶和烧结是一种用于粉末状金属部件、MIM部件、3D金属打印和串珠应用的工艺。零件被加热到结合剂的汽化温度，并保持在这一水平，直到结合剂的所有放气完成。然后，温度被提高到基础合金的烧结温度，并保持该温度以确保发生固态部件扩散。

我们生产的标准真空炉具有±10 °F (±6 °C)的温度均匀性性，工作温度可达3,000 °F (1,316 °C) 。一些炉型，如我们的真空铝钎焊生产线，可以在保证±5 °F (3 °C)的温度均匀性。

石墨热区

石墨热区使用寿命长，可以提供良好的投资回报率。它们很坚固，维修起来很经济，且炉床有很高的抗高温蠕变能力。

全金属钼热区

如果您的工艺容易受到石墨的污染，金属钼热区可以满足您的需求。我们的钼热区元件具有 "双U "型的结构，使其易于安装和更换。

定制结构

我们提供定制的热区结构，如石墨隔热屏与钼加热元件的组合，用于有特殊要求的应用。

我们有能力设计符合各种国际标准的压力容器，包括。

• ASME
• CE
• CSA
• GOST
• JIS